Spectromètre d'émission optique d'analyse élémentaire de laboratoire OES à spectre complet GL-410
Le spectromètre GL-410 est un spectromètre d'émission optique à spectre complet (OES) conçu pour l'analyse élémentaire multi-matrice de haute précision (par exemple, Fe, Cu, Al, Zn) sur une large gamme de longueurs d'onde de 140 à 750 nm.
Analyse de matériaux multifonctionnelle : prend en charge l'analyse de plusieurs matrices telles que Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Sn, Ti et Mg, répondant aux besoins de diverses industries.
Conception modulaire : Comprend des modules de collecte optique et de traitement de données indépendants, associés à un processeur ARM hautes performances et à un système d'exploitation en temps réel, réduisant considérablement le temps d'analyse et améliorant encore la précision.
Système de contrôle précis de la température : la fluctuation de température est limitée à ±0,2℃, garantissant une stabilité opérationnelle et une efficacité énergétique améliorée.
Capacité d'analyse à large spectre : la source lumineuse à commande numérique étend la gamme d'analyse élémentaire, couvrant les traces, les macroéléments et les éléments à très haute teneur.
Conception optique efficace : le réseau plan réduit le nombre de CCD, améliorant la précision et la stabilité tout en rendant l'appareil plus compact et facile à installer et à déplacer.
Système de chemin de gaz optimisé : la nouvelle conception du chemin de gaz comprend une fonction de nettoyage et un mécanisme d'étanchéité pour empêcher les fuites d'argon, permettant un remplissage rapide et réduisant les coûts d'exploitation.
Prise en charge logicielle intelligente : le logiciel d'exploitation polyvalent affiche de manière flexible les données élémentaires et prend en charge divers formats d'impression pour répondre aux besoins personnalisés.
système optique | structure | Czerny-Turner |
rayon de courbure | 400 mm | |
Réseau holographique original IV avec fonction de correction des aberrations | 2400 lignes réglées/mm | |
gamme de longueurs d'onde | 140-750 nm | |
résolution en pixels | @200nm:19h | |
chambre optique sous vide avec système thermostatique automatique | 30±0,2℃ Plage de vide : 1,2-2,5 Pa | |
système de source lumineuse | source de lumière | à commande numérique impulsion d'étincelle |
technique de contrôle | Modulation de largeur d'impulsion (PWM) | |
courant de décharge | 10-400A | |
fréquence d'excitation | 100-800 Hz | |
durée de décharge | 10-10000μs | |
support d'étincelle | chambre d'excitation avec utilisation minimale d'argon | |
fond de teint (couvercle) facilement interchangeable | ||
goupille de fixation mobile | ||
Système de collecte et de contrôle des données | Détecteur CCD à haute résolution | |
CCD linéaire : Toshiba | ||
conversion A/N 16 bits à grande vitesse | ||
résolution: 3648 pixels | ||
contrôle en temps réel de la température et de l'état du vide | ||
Ethernet | ||
autres | matrices | Fe, Cu, Al, Ni, Zn, Sn, Ti, Mg, etc. |
configuration des canaux | matrices et canaux multiples | |
dimensions (mm) | 970*415*640 | |
exigence environnementale | T 10℃-35℃ H 20%-80% | |
poids | 130 kg (poids net), 180 kg (poids brut) | |
V/F | CA 220 V ± 10 %/50 Hz | |
pouvoir | max 800 VA veille 100 VA | |
argon | pureté≥99,994 % , presse≥0,3MPa | |